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          等離子電暈表面設備

          表面處理設備

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          VacuLAB-X小 型實驗室用真空等離子設備

          產品特征:

          ·使用簡便
          ·處理速度快
          ·真空度
          ·集成的放電發生器
          ·過程控制
          ·等離子過程可視化
          ·測試效果通用




          供實驗室測試和小批量生產使用的臺式真空等離子設備
          Tantec的VacuLAB是VacuTEC設備的精簡版。VacuLAB可用于小批量的測試,并且用戶可控制所有參數。采用VacuLAB測試的結果也可應用到VacuTEC設備中。


          VacuLAB是根據VacuTEC設備而專門設計的小型設備,具有體積小,方便攜帶等特點,既可以在實驗室即時完成各種樣品的效果測試,也可以用于小批量的生產。


          VacuLAB集成proface面板,更加有利于控制和監控參數變化的整個過程。
          VacuLAB采用標準的陶瓷絕緣電極,保證了測試效果同樣適用于VacuTEC設備。
          VacuLAB的倉門是透明的,因此用戶可觀察到等離子放電處理產品的全過程。


          特點:
          ·使用簡便 在實驗室中可對各種部件進行測試,連接電源和裝置即可。
          ·處理速度快 材質不同,處理所需時間不同,一般為10-180s。
          ·真空度 處理過程中處理倉中的真空度為1-4mbar。
          ·集成的放電發生器 300w的放電發生器與設備集成為一體,可通過觸摸屏上進行控制。
          ·過程控制 通過內置的proface面板和PLC裝置,可控制和監控整個處理過程。
          ·等離子過程可視化 處理倉門是透明材質制作,可以觀察到等離子處理的過程。
          ·測試效果通用 測試的效果也適用于VacuTEC。




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